ENCOUNTER平臺
Encounter平臺是基于90納米及其以下工藝,針對復雜、低功耗設計的,從RTL到GDSII
的完整設計環(huán)境。它囊括了納米級數(shù)字設計的一整套技術,包括:綜合、測試、形式驗
證、物理原型、信號完整性分析和時序、布局、設計約束管理、高良品率優(yōu)化、功耗優(yōu)
化等等。Encounter平臺提供了一個完整的設計流程:從RTL綜合及面向測試的設計,通
過物理原型和層次分割,到最終的時序及制造收斂,等等。它提供最好的硅片質量(時
序、面積、及線路功耗)、精確驗證、SI監(jiān)控布線、及最新的對高級65納米設計非常關
鍵的高良品率及低功耗設計能力。Encounter平臺可以提高您的生產(chǎn)力、簡化設計復雜
度、并縮短產(chǎn)品的上市時間。
此次課程針對最新版的Encounter 6.1的技術特點及應用進行講解,通過學習及上機練習,您將運用Encounter 6.1學習:
- 運用虛擬原型技術進行設計布局規(guī)劃
- 自動布局
- 掃描鏈重組
- 運用試布線技術在設計早期階段估計芯片擁塞
- 寄生參數(shù)抽取及延時計算
- 時鐘樹綜合
- 設計層次化劃分及布局規(guī)劃
- 設計物理層次化劃分及時序規(guī)劃
- 功耗分析,電源網(wǎng)絡分布及電源分析
- 時序優(yōu)化和收斂
培訓對象:
有0-1年設計經(jīng)驗的數(shù)字IC設計工程師
預修知識:
1. UNIX基礎
2. VERILOG HDL語言
3. CMOS集成電路設計基礎
4. TCL語言
課程內容:
第一部分
綜述
RTL綜合
設計布局規(guī)劃
電源網(wǎng)絡規(guī)劃
自動布局
掃描鏈優(yōu)化及重組
試布線分析
第二部分
寄生參數(shù)抽取及時序分析
時序優(yōu)化及收斂
時鐘樹綜合
電源網(wǎng)絡及特殊互連布線
設計層次化劃分
電源分析
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